常用超纯水水处理系统工艺流程图

常用的一级ＲＯ＋二级ＥＤＩ＋ＭＢ　电子Ｉ级超纯水系统工艺配置图

适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率高（小于１０００μｓ／ｃｍ），要求产水电阻率１８～１８。２ＭΩ·ｃｍ的超纯水系统。

常用的一级ＲＯ＋二级ＥＤＩ电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图

适合于源水硬度高，有机物含量高，电导率（小于１０００μｓ／ｃｍ），要求产水电阻率１５～１８ＭΩ·ｃｍ的超纯水系统。

常用的一级ＲＯ＋二级ＥＤＩ电子＋ＭＢ　电子Ｉ级超纯水系统工艺配置图

适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于１０００μｓ／ｃｍ），要求产水电阻率１８～１８。２ＭΩ·ｃｍ的超纯水系统。

常用的一级ＲＯ＋二级ＥＤＩ电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图

适合于源水硬度低，有机物含量低，电导率高（小于１０００μｓ／ｃｍ），要求产水电阻率１５～１８ＭΩ·ｃｍ的超纯水系统图　７是常用的一级ＥＤＩ全系统组成图。

常用的产水水质稳定的二级ＲＯ＋一级ＥＤＩ＋ＭＢ电子Ⅰ级超纯水系统组成图

适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率　＜１０００μｓ／ｃｍ，即ＴＤＳ　＜　５００ｐｐｍ时，要求产水电阻率１８～１８。２ＭΩ·ｃｍ的纯水系统

常用的产水水质稳定的二级ＲＯ＋一级ＥＤＩ电子Ⅱ级超纯水系统组成图

适合于源水硬度低，有机物含量高，电导率　＜１０００μｓ／ｃｍ，即ＴＤＳ　＜　５００ｐｐｍ时，要求产水电阻率１５～１８。０ＭΩ·ｃｍ的的纯水系统。